Finsk kiselskiva
av Bjarne Nyman Forum 1985-02, sida 18, 06.02.1985
Taggar: Bolag: Outokumpu & Nokia Teman: företag
F RU
Mera finländsk högteknologi:
Av BJARNE NYMAN
HE Planerna på tillverkning av kiselskivor i Finland är gamla. Redan för elva år sedan började idén odlas av professor Veikko Lindroos vid Tekniska högskolans institution för metallära. Men riktigt på allvar startade forskningen för fyra år sedan, då Nokia och Outokumpu kom med i bilden. Det skedde inom ramen för ett projekt som delvis finansierades av Handels- och industriministeriet.
Fungerande samarbete högskola-industr 1 laboratorieskala har en forskningsgrupp på närmare 20 personer under de gångna fyra åren skaffat sig ett produktionstekniskt kunnande på området. Kiselskivor av hög kvalitet har tillverkats och marknadsförts på prov. Marknadsresponsen i kombination med den på egen hand uppskattade och uppmätta kvaliteten är en av de viktiga faktorerna som ligger bakom Outokumpus och Nokias beslut om fullskaleproduktion.
— Projektet är ett mycket bra exempel på samarbete mellan industri och högskola, anser dir Olavi Siltari. Båda två behövs för ett gott resultat.
Kiselskivorna kommer att tillverkas inom ramen för ett bolag som tillsvidare inte existerar. Det tilltänkta bolaget har inte ens ett namn ännu. Men väl en verkställande direktör. DI Immo Seppänen, tillsvidare VD för Texas Instruments, har utnämnts till det nya bolagets VD. Bolaget kommer att bli ett dotterbolag till Outokumpu, medan Nokia innehar en minoritetsandel av aktierna.
Kinkig tillverkning
Tillverkningen av kiselskivorna komme 1 2185
Outokumpu och Nokia
Efter fyra år av aktiv forskning i samarbete med Tekniska högskolan har Outokumpu Oy och Oy Nokia Ab nu fattat beslut om tillverkning av kiselskivor i industriell skala. Kiselskivorna skall användas som utgångsmaterial vid processering av integrerade mikrokretsar både i Finland och utomlands.
— Vi kommer att inrikta exportanstängningarna främst på Skandinavien och det övriga Europa, säger dir Olavi Siltari vid
Outokumpu.
Kiselskivor av den nu aktuella typen produceras tillsvidare inte i industriell skala i något av de nordiska länderna.
att ske enligt den s k Ozochralsk-metoden med ytterst rent kisel som utgångsmaterial. I början av produktionsprocessen smältes kiselmaterialet ner i flytande form, varefter kristallisationen sker utgående från en moderkristall som får komma i kontakt med smältan. Den växande kristallen lyftes långsamt och resultatet blir en kiselstång. De olika typerna av halvledare, n-typ eller p-typ fås genom att sätta små mängder grundämnen med tre eller alternativt fem elektroner i det yttersta elektronskalet.
Kiselkristallen växer till önskad storlek på 10—24 timmar, varefter den med dia mantsåg kapas i skivor som är ca 0,5 millimeter tjocka. Sedan följer slipning. polering, kemisk rening, vacuumförpackning. Produkten är då klar för distribution till kunderna.
Riktigt så enkelt är det givetvis inte i praktiken. Det är tvärtom mycket kinkigt att få kiselkristallen att växa till sig så att den duger till framställning av kiselskivor för halvledarändamål, T ex renhetskraven under processen är ca 100 gånger så stränga som i operationssalen på ett sjukhus. Men denna teknik har man nu alltså lärt sig också i Finland.
Många arbetsskeden vid tillverkningen av kiselskivor har som mål att göra skivan så slät som möjligt. På bilden slipas kiselskivorna i en specialkonstruerad apparat.